世界の極端紫外線リソグラフィ（EUVL）システム市場は、2022年から2031年までに 100億米ドル から 750億米ドルまでの収益増加が見込まれ、2023年から2031年の予測期間にかけて年平均成長率（CAGR）が 25.1％で成長すると予測されています。
極端紫外線リソグラフィ（EUVL）は、30nmという微細なラインを形成し、マイクロチップやマイクロプロセッサーを開発するために利用される次世代リソグラフィ（NGL）技術の代表的なものの一つです。この技術は、現在の微細回路の形成に利用されている光リソグラフィに取って代わる可能性があります。EUVLシステムは、回路設計パターンから反射された強い紫外線ビームをシリコンウエハーに照射することで動作します。
市場を牽引する要因：
地域別分析
北米が最大のシェアを占めています。これは継続的な技術進歩によるものと考えられます。また、5Gコネクティビティ、人工知能（AI）、拡張現実（AR）、その他多数のシステムの必要性に伴い、マイクロチップの需要が急増しました。これは、同市場のプレーヤーに大きな可能性をもたらしています。
アジア太平洋が収益面で市場を独占すると推定されます。これは、同地域に多数の半導体主要なプレーヤーが存在すること、及び同国でメモリなどの半導体デバイスが多く使用されていることによるものです。さらに、半導体産業の即時の説明は、この地域の極端紫外線リソグラフィ（EUVL）システム市場を後押しすると推定されます。
セグメンテーションの洞察
光源別
レーザ生成プラズマ(LPP)セグメントがシェアで市場を独占し、今後もその優位性を維持すると予測されています。これは、レーザー生成プラズマの駆動システムの利用が増加していることが主因であり、1064nmのレーザー出力をマイクロリソグラフィ装置用の13.5nmの強力な紫外線（EUV）に効率的に変換します。
装置別
光源セグメントが最大シェアで市場を独占しています。これは、全世界の原子分光法の研究者が、将来のリソグラフィのためにさらに小さな波長の光源を開発し利用しようとしていることによるものです。
ミラーセグメントは収益面で市場を独占しており、今後もその独占が続くと推定されます。これは、真空チャンバー内で超平滑な多層膜ミラーを利用した新しい光学システムを統合するメーカーが増加したことに起因しています。
主要な企業:
セグメンテーションの概要
世界の極端紫外線リソグラフィ（EUVL）システム市場は、光源、装置、及び地域に焦点を当てて分類されています。
光源別
装置別
地域別
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