世界の極端紫外線リソグラフィ（EUVL）システム市場規模シェア、競争環境、トレンド分析レポート： 光源別（レーザー生成プラズマ（LPP）、真空スパーク、ガス放電）、装置別（マスク、光源、ミラー、その他） - 2031年までの世界機会分析と産業予測

世界の極端紫外線リソグラフィ（EUVL）システム市場は、2022年から2031年までに 100億米ドル から 750億米ドルまでの収益増加が見込まれ、2023年から2031年の予測期間にかけて年平均成長率（CAGR）が 25.1％で成長すると予測されています。 続きを読む